大陆半导体光阻材料概况继续研发更耐热的光区域

半导体材料作为微电子和光的基础材料，它的发展十分引人关注。特别是如今半导体技术已经从微米进步到纳米尺度，微电子更恰当的称谓应是 纳米电子 ，对半导体材料性能也将有更新的需求。

中国大陆市场规模将进一步提升

中国大陆市场所需248nm光阻材料在全球市场所占份额从201 年起大幅增加。

根据中国半导体协会201 年11月公布的数据显示，中国大陆半导体内需市场规模从2008年的740亿美元增长到2012年的1124亿美元，中国大陆已是全球最大的半导体消费区。预估到2016年中国大陆半导体内需市场将进一步增长到1600亿美元。提高半导体产品的自制率成为中国大陆半导体产业的政策方向。

不过就晶圆代工产业而言，除中芯国际、华力微电子和武汉新芯之外，晶圆代工业者以8英寸晶圆厂，甚至是6英寸晶圆厂为主，无论在产能规模、制程技术等各方面都无法与台积电、GolbalFoundries等国际一线大厂直接竞争。因此未来一段时间，中国大陆晶圆代工厂将通过 制程升级 、 扩充产能 和 平台差异化 三大策略寻求成长，以便有效提升市占率，拓宽生存空间，

在此情况下，受到市场需求强劲推动，中国大陆在全球光阻材料市场中所占份额必将大幅提升。根据上表所示，中国大陆市场所需G-Line光阻材料在全球市场所占份额从2012年起大幅增加；所需I-Line光阻材料在全球市场所占份额从201 年起大幅增加；所需248nm光阻材料在全球市场所占份额从201 年起大幅增加。

永光化学多年经营中国大陆市场，建立了顺畅灵活的经销供货络。永光化学除了在苏州建立生产基地，可更方便了解客户需求与深入市场，还在2011年购并华东经销商安泰半导体科技(苏州)有限公司使其成为永光集团旗下的子公司，可进一步加强对中国大陆客户的服务。让客户能真正感受到本地生产、量身定制、即时服务、价格优惠的优质服务。

致力于高解析度材料的研发

为了符合离子植入制程阶段的温度条件，材料厂商将开发耐热性更佳的光阻剂。

半导体业新的技术不断出现，也推动着材料技术不断向前演进。半导体制程正朝向更细线宽方面发展，持续开发I-Line高解析的光阻剂(EPI626、膜厚1 m，解析度0. 5 m)是市场的需求趋势。此外，为了符合离子植入制程阶段的温度条件，材料厂商将开发耐热性更佳的光阻剂，以提升产品竞争力。不过目前中国大陆晶圆代工产业仍以8英寸晶圆为主要产能，0.18微米/0.15微米/0.1 微米制程为主流制程。永光将持续致力于细线宽高解析的研发，朝DUV光阻开发方向来努力。